ऊर्जा उद्योग में परमाणु परत जमाव
अनुप्रयोग
अनुप्रयोग | विशिष्ट उद्देश्य |
ऊर्जा | क्रिस्टलीय सिलिकॉन सौर सेल: निष्क्रियता परत / बफर परत / पारदर्शी इलेक्ट्रोड |
डाई-सेंसिटाइज़्ड सेल: फोटो-एनोड / चार्ज रीकॉम्बिनेशन बैरियर लेयर | |
ईंधन सेल: प्रोटॉन एक्सचेंज मेम्ब्रेन / कैथोड / इलेक्ट्रोलाइट / उत्प्रेरक | |
लिथियम आयन बैटरी: नैनोस्ट्रक्चर एनोड / कैथोड / इलेक्ट्रोड संशोधित कोटिंग | |
थर्मोइलेक्ट्रिक सामग्री | |
इलेक्ट्रोड सामग्री सुरक्षा परत |
काम के सिद्धांत
परमाणु परत जमाव की प्रक्रिया में चार चरण होते हैं:
1. सब्सट्रेट सतह के साथ सोखना प्रतिक्रिया करने के लिए सब्सट्रेट में पहले पूर्ववर्ती गैस को इंजेक्ट करें।
2. बची हुई गैस को अक्रिय गैस से प्रवाहित करें।
3. दूसरे अग्रदूत गैस को सब्सट्रेट पर पहले अग्रदूत गैस के साथ रासायनिक प्रतिक्रिया करने के लिए इंजेक्ट करें
सतह से फिल्म बनती है।
4. अतिरिक्त गैस को दूर करने के लिए अक्रिय गैस को फिर से इंजेक्ट करें।
विशेषताएँ
नमूना | ALD-EX-X |
कोटिंग फिल्म प्रणाली | अल2हे3,TiO2,ZnO, आदि |
कोटिंग तापमान रेंज | सामान्य तापमान 500 ℃ (अनुकूलन योग्य) |
कोटिंग वैक्यूम चैम्बर आकार | आंतरिक व्यास: 1200 मिमी, ऊँचाई: 500 मिमी (अनुकूलन योग्य) |
वैक्यूम चैम्बर संरचना | ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार |
पृष्ठभूमि निर्वात | <5 × 10-7मिलीबार |
परत की मोटाई | ≥0.15 एनएम |
मोटाई नियंत्रण परिशुद्धता | ± 0.1 एनएम |
कोटिंग का आकार | 200×200mm² / 400×400mm² / 1200×1200 mm², आदि |
फिल्म मोटाई एकरूपता | ≤±0.5% |
अग्रदूत और वाहक गैस | ट्राइमिथाइल एल्युमिनियम, टाइटेनियम टेट्राक्लोराइड, डायथाइल जिंक, शुद्ध पानी, |
नोट: अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है। |
कोटिंग के नमूने
प्रक्रिया चरण
→ निर्वात कक्ष में कोटिंग के लिए सब्सट्रेट रखें;
→ उच्च और निम्न तापमान पर निर्वात कक्ष को वैक्यूम करें, और सब्सट्रेट को समकालिक रूप से घुमाएं;
→ प्रारंभ कोटिंग: सब्सट्रेट को अनुक्रम में और एक साथ प्रतिक्रिया के बिना अग्रदूत के साथ संपर्क किया जाता है;
→ प्रत्येक प्रतिक्रिया के बाद इसे उच्च शुद्धता वाली नाइट्रोजन गैस से शुद्ध करें;
→ फिल्म की मोटाई मानक तक होने और शुद्ध करने और ठंडा करने का संचालन होने के बाद सब्सट्रेट को घुमाना बंद करें
पूरा हो गया है, फिर वैक्यूम ब्रेकिंग की स्थिति पूरी होने के बाद सब्सट्रेट को बाहर निकालें।
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