फंक्शनल फिल्म फील्ड में मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग डिपोजिशन
अनुप्रयोग
| अनुप्रयोग | खास वज़ह | सामग्री के प्रकार |
| कार्यात्मक फिल्म | सुपरहार्ड फिल्म | टीआईएन, टीआईसी |
|
लाइटप्रूफ फिल्म |
सीआर, अलसी, अलटीआई, आदि | |
| प्रतिरोधी फिल्म | NiCrSi, CrSi, MoTa, आदि | |
| सुपरकंडक्टिंग फिल्म | YbaCuO, BiSrCaCuo | |
| चुंबकीय फिल्म | Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, आदि |
काम करने का सिद्धांत
विभिन्न कार्य सिद्धांतों और अनुप्रयोग वस्तुओं के साथ कई प्रकार के मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग हैं।लेकिन वहाँ
एक बात समान है: यह इलेक्ट्रॉनों को लक्ष्य सतह के पास सर्पिल पथों के बीच परस्पर क्रिया द्वारा चलाता है
चुंबकीय और विद्युत क्षेत्र, इस प्रकार आर्गन से टकराने वाले इलेक्ट्रॉनों से उत्पन्न होने वाले आयनों की संभावना बढ़ जाती है।
उत्पन्न आयन तब विद्युत क्षेत्र की कार्रवाई के तहत लक्षित सतह से टकराते हैं और लक्ष्य सामग्री को बिखेरते हैं।
विशेषताएँ
| नमूना | एमएससी-एफएफ-एक्स-एक्स |
| कोटिंग प्रकार | धातु फिल्म, धातु ऑक्साइड और एआईएन जैसी विभिन्न ढांकता हुआ फिल्में |
| कोटिंग तापमान रेंज | सामान्य तापमान 500 ℃ तक |
| कोटिंग वैक्यूम चैम्बर आकार | 700 मिमी * 750 मिमी * 700 मिमी (अनुकूलन योग्य) |
| पृष्ठभूमि निर्वात | <5 × 10-7मिलीबार |
| परत की मोटाई | ≥ 10 एनएम |
| मोटाई नियंत्रण परिशुद्धता | ≤ ± 3% |
| अधिकतम कोटिंग आकार | ≥ 100 मिमी (अनुकूलन योग्य) |
| फिल्म मोटाई एकरूपता | ≤ ± 0.5% |
| सब्सट्रेट वाहक | ग्रहीय घूर्णन तंत्र के साथ |
| लक्ष्य सामग्री | 4×4 इंच (4 इंच और नीचे के साथ संगत) |
| बिजली की आपूर्ति | बिजली की आपूर्ति जैसे डीसी, पल्स, आरएफ, आईएफ और पूर्वाग्रह वैकल्पिक हैं |
| प्रक्रिया गैस | एआर, एन2, ओ2 |
| नोट: अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है। | |
कोटिंग नमूना
प्रक्रिया के चरण
→ निर्वात कक्ष में कोटिंग के लिए सब्सट्रेट रखें;
→ मोटे तौर पर वैक्यूम करें;
→ आणविक पंप चालू करें, वैक्यूम करेंशीर्ष गति पर, फिर क्रांति और रोटेशन चालू करें;
→ निर्वात कक्ष को तब तक गर्म करना जब तक कि तापमान तक नहीं पहुँच जातालक्ष्य;
→ निरंतर तापमान नियंत्रण लागू करें;
→ स्वच्छ तत्व;
→ घूमना और मूल में वापस आना;
→ प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार कोटिंग फिल्म;
→ कम तापमान और कोटिंग के बाद पंप असेंबली बंद करो;
→ जब काम करना बंद कर देंस्वचालित संचालन समाप्त हो गया है।
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