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Dielectric Films Magnetron Deposition Sputter Coater In Perovskite Thin-Film Battery Industry

Perovskite पतली फिल्म बैटरी उद्योग में डाइलेक्ट्रिक फिल्म्स मैग्नेट्रॉन डिपोजिशन स्पटर कोटर

  • हाई लाइट

    Perovskite पतली-फिल्म बैटरी मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग डिपोजिशन

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    Perovskite पतली-फिल्म बैटरी मैग्नेट्रॉन स्पटर कोटर

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    डाइइलेक्ट्रिक फिल्म्स मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटर

  • वज़न
    2500±200KG, अनुकूलन योग्य
  • आकार
    2800*1000*2300mm, अनुकूलन योग्य
  • अनुकूलन
    उपलब्ध
  • गारंटी अवधि
    1 साल या मामला दर मामला
  • शिपिंग की शर्तें
    समुद्र / वायु / मल्टीमॉडल परिवहन द्वारा
  • उत्पत्ति के प्लेस
    चेंगदू, PRCHINA
  • ब्रांड नाम
    ZEIT
  • प्रमाणन
    Case by case
  • मॉडल संख्या
    एमएससी-पीएफबी-एक्स-एक्स
  • न्यूनतम आदेश मात्रा
    1 सेट
  • मूल्य
    Case by case
  • पैकेजिंग विवरण
    लकड़ी का केस
  • प्रसव के समय
    विषयानुसार
  • भुगतान शर्तें
    टी/टी
  • आपूर्ति की क्षमता
    विषयानुसार

Perovskite पतली फिल्म बैटरी उद्योग में डाइलेक्ट्रिक फिल्म्स मैग्नेट्रॉन डिपोजिशन स्पटर कोटर

Perovskite पतली फिल्म बैटरी उद्योग में मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग डिपोजिशन
 
 
अनुप्रयोग

  अनुप्रयोग   खास वज़ह   सामग्री के प्रकार
  Perovskite पतली फिल्म बैटरी   पारदर्शी संचालन परत   जेडएनओ: अल

 
काम करने का सिद्धांत
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग चुंबकीय क्षेत्र द्वारा इलेक्ट्रॉन के गति पथ को बाधित और विस्तारित करना, गति को बदलना है
इलेक्ट्रॉन की दिशा, कार्यशील गैस की आयनीकरण दर में वृद्धि और इलेक्ट्रॉनों की ऊर्जा का प्रभावी ढंग से उपयोग करना।
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग में निम्नलिखित विशेषताएं हैं: तेजी से जमाव दर, उच्च जमाव दक्षता, के लिए उपयुक्त
औद्योगिक उत्पादन में बड़े पैमाने पर आवेदन;कम सब्सट्रेट तापमान, प्लास्टिक की कोटिंग के लिए उपयुक्त और
अन्य गर्मी प्रतिरोधी सबस्ट्रेट्स;तैयार फिल्मों की उच्च शुद्धता, अच्छी कॉम्पैक्टनेस, बेहतर फिल्म एकरूपता और मजबूत
फिल्म-सब्सट्रेट सामंजस्य;धातु, मिश्र धातु, ऑक्साइड और अन्य फिल्में तैयार की जा सकती हैं;प्रदूषण मुक्त।
 
विशेषताएँ

  नमूना   एमएससी-पीएफबी-एक्स-एक्स
  कोटिंग प्रकार   धातु फिल्म, धातु ऑक्साइड और एआईएन जैसी विभिन्न ढांकता हुआ फिल्में
  कोटिंग तापमान रेंज   सामान्य तापमान 500 ℃ तक
  कोटिंग वैक्यूम चैम्बर आकार   700 मिमी * 750 मिमी * 700 मिमी (अनुकूलन योग्य)
  पृष्ठभूमि निर्वात   <5 × 10-7मिलीबार
  परत की मोटाई   ≥ 10 एनएम
  मोटाई नियंत्रण परिशुद्धता

  ≤ ± 3%

  अधिकतम कोटिंग आकार   ≥ 100 मिमी (अनुकूलन योग्य)
  फिल्म मोटाई एकरूपता   ≤ ± 0.5%
  सब्सट्रेट वाहक   ग्रहीय घूर्णन तंत्र के साथ
  लक्ष्य सामग्री   4×4 इंच (4 इंच और नीचे के साथ संगत)
  बिजली की आपूर्ति   बिजली की आपूर्ति जैसे डीसी, पल्स, आरएफ, आईएफ और पूर्वाग्रह वैकल्पिक हैं
 प्रक्रिया गैस

  एआर, एन2, ओ2

  नोट: अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

                                                                                                                
कोटिंग नमूना

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प्रक्रिया के चरण
→ निर्वात कक्ष में कोटिंग के लिए सब्सट्रेट रखें;
→ मोटे तौर पर वैक्यूम करें;
→ आणविक पंप चालू करें, शीर्ष गति पर वैक्यूम करें, फिर क्रांति और रोटेशन चालू करें;
→ निर्वात कक्ष को तब तक गर्म करना जब तक कि तापमान लक्ष्य तक न पहुँच जाए;
→ निरंतर तापमान नियंत्रण लागू करें;
→ स्वच्छ तत्व;
→ घूमना और मूल में वापस आना;
→ प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार कोटिंग फिल्म;
→ कम तापमान और कोटिंग के बाद पंप असेंबली बंद करो;
→ स्वचालित संचालन समाप्त होने पर कार्य करना बंद कर दें।
 
हमारे फायदे
हम निर्माता हैं।
परिपक्व प्रक्रिया।
24 कार्य घंटों के भीतर उत्तर दें।
 
हमारा आईएसओ प्रमाणन
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हमारे पेटेंट के हिस्से
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हमारे पुरस्कारों के हिस्से और अनुसंधान एवं विकास की योग्यताएं

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