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Dielectric Films Optical Coating Equipment PVD Magnetron Sputter Deposition Machine

ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन

  • हाई लाइट

    ZEIT डाइइलेक्ट्रिक फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग इक्विपमेंट

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    ZEIT डाइइलेक्ट्रिक फिल्म्स PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन

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    डाइइलेक्ट्रिक फिल्म्स स्पटर डिपोजिशन मशीन

  • वज़न
    2500±200KG, अनुकूलन योग्य
  • आकार
    2800 मिमी * 1000 मिमी * 2300 मिमी, अनुकूलन योग्य
  • लंबवत चुंबकीय रिकॉर्डिंग फिल्म
    सी.ओ.सी.आर
  • लक्ष्य सामग्री
    4x4 इंच (4 इंच और नीचे के साथ संगत)
  • प्रक्रिया गैस
    अर, N2, O2
  • परत की मोटाई
    ≥10 एनएम
  • सब्सट्रेट वाहक
    ग्रहीय घूर्णन तंत्र के साथ
  • नमूना
    एमएससी700-750-700
  • ब्रैंड
    ज़ीट
  • उत्पत्ति के प्लेस
    चेंगदू, PRCHINA
  • ब्रांड नाम
    ZEIT
  • प्रमाणन
    Case by case
  • मॉडल संख्या
    एमएससी700-750-700
  • न्यूनतम आदेश मात्रा
    1 सेट
  • मूल्य
    Case by case
  • पैकेजिंग विवरण
    लकड़ी का केस
  • प्रसव के समय
    विषयानुसार
  • भुगतान शर्तें
    टी/टी
  • आपूर्ति की क्षमता
    विषयानुसार

ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन

ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण Ar N2 O2 PVD मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग डिपोजिशन

 

अनुप्रयोग

अनुप्रयोग  विशिष्ट उद्देश्य  सामग्री के प्रकार
सेमीकंडक्टर  आईसी, एलएसआई इलेक्ट्रोड, वायरिंग फिल्म  एआई, अल-सी, अल-सी-क्यू, क्यू, एयू, पीटी, पीडी, एजी
 वीएलएसआई मेमोरी इलेक्ट्रोड  मो, डब्ल्यू, टीआई
 डिफ्यूजन बैरियर फिल्म  MoSix, Wsix, TaSix,, TiSx, W, Mo, W-Ti
 चिपकने वाली फिल्म  PZT (पंजाब-ZrO2-टीआई), टीआई, डब्ल्यू
 दिखाना  पारदर्शी प्रवाहकीय फिल्म  आईटीओ (In2O; -SnO2)
 इलेक्ट्रोड वायरिंग फिल्म   मो, डब्ल्यू, सीआर, टा, ती, अल, अलती, एआईता
 इलेक्ट्रोल्यूमिनिसेंट फिल्म

 ZnS-Mn, ZnS-Tb, CaS-Eu, Y2हे3, ता2हे5,

 बाटीओ3

 चुंबकीय रिकॉर्डिंग  लंबवत चुंबकीय रिकॉर्डिंग फिल्म  सी.ओ.सी.आर
 हार्ड डिस्क के लिए फिल्म  CoCrTa, CoCrPt, CoCrTaPt
 पतली फिल्म चुंबकीय सिर  CoTaZr, CoCrZr
 कृत्रिम क्रिस्टल फिल्म  सीओपीटी, सीओपीडी
ऑप्टिकल रिकॉर्डिंग  चरण परिवर्तन डिस्क रिकॉर्डिंग फिल्म  टीएसई, एसबीएसई, टीजीईएसबी, आदि
 चुंबकीय डिस्क रिकॉर्डिंग फिल्म

 TbFeCo, DyFeCo, TbGdFeCo,

TbDyFeCo

 ऑप्टिकल डिस्क चिंतनशील फिल्म  एआई, एआईटीआई, अलसीआर, एयू, एयू मिश्र धातु
 ऑप्टिकल डिस्क सुरक्षा फिल्म  सी3एन4, एसआईओ2+ जेएनएस
 Perovskite पतली फिल्म बैटरी  पारदर्शी संचालन परत  जेडएनओ: अल
 चिकित्सा उपचार  जैव संगत सामग्री  अल2हे3, टीआईओ2
 सजावटी कोटिंग  रंगीन फिल्म, धातुई फिल्म  अल2हे3, टीआईओ2, और सभी प्रकार की धातु फिल्में
 विरोधी मलिनकिरण कोटिंग  कीमती धातु विरोधी ऑक्सीकरण कोटिंग अल2हे3, टीआईओ2
 ऑप्टिकल फिल्में  उच्च-निम्न अपवर्तक सूचकांक  एसआईओ2, टीआईओ2, ता2हे5, ZrO₂, HfO2
 अन्य अनुप्रयोगों  लाइटप्रूफ फिल्म  सीआर, अलसी, अलटीआई, आदि
 प्रतिरोधी फिल्म  NiCrSi, CrSi, MoTa, आदि
 सुपरकंडक्टिंग फिल्म  YbaCuO, BiSrCaCuo
 चुंबकीय फिल्म  Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, आदि

 

विशेषताएँ

  नमूना   एमएससी700-750-700
  कोटिंग प्रकार   धातु फिल्म, धातु ऑक्साइड और एआईएन जैसी विभिन्न ढांकता हुआ फिल्में
  कोटिंग तापमान रेंज   सामान्य तापमान 500 ℃ (अनुकूलन योग्य)
  कोटिंग वैक्यूम चैम्बर आकार   700 मिमी * 750 मिमी * 700 मिमी (अनुकूलन योग्य)
  पृष्ठभूमि निर्वात   <5 × 10-7मिलीबार
 परत की मोटाई   ≥10 एनएम
  मोटाई नियंत्रण परिशुद्धता   ≤±3%
  अधिकतम कोटिंग आकार   ≥100 मिमी (अनुकूलन योग्य)
  फिल्म मोटाई एकरूपता   ≤±0.5%
  सब्सट्रेट वाहक   ग्रहीय घूर्णन तंत्र के साथ
  लक्ष्य सामग्री   4x4 इंच (4 इंच और नीचे के साथ संगत)
  बिजली की आपूर्ति  बिजली की आपूर्ति जैसे डीसी, पल्स, आरएफ, आईएफ और पूर्वाग्रह वैकल्पिक हैं
  प्रक्रिया गैस   एआर, एन2, ओ2
  नोट: अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

                                                                                                                

प्रक्रिया के चरण

→ निर्वात कक्ष में कोटिंग के लिए सब्सट्रेट रखें;

→ मोटे तौर पर वैक्यूम करें;

→ आणविक पंप चालू करें, शीर्ष गति पर वैक्यूम करें, फिर क्रांति और रोटेशन चालू करें;

→ निर्वात कक्ष को तब तक गर्म करना जब तक कि तापमान लक्ष्य तक न पहुँच जाए;

→ निरंतर तापमान नियंत्रण लागू करें;

→ स्वच्छ तत्व;

→ घूमना और मूल में वापस आना;

→ प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार कोटिंग फिल्म;

→ कम तापमान और कोटिंग के बाद पंप असेंबली बंद करो;

→ स्वचालित संचालन समाप्त होने पर कार्य करना बंद कर दें।

 

कोटिंग नमूना

ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन 0

 

काम के सिद्धांत

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग एक प्रकार का भौतिक वाष्प जमाव (PVD) है।यह इलेक्ट्रॉनों को सर्पिल में गतिमान बनाता है

चुंबकीय और विद्युत क्षेत्रों के बीच अन्योन्य क्रिया द्वारा लक्ष्य सतह के पास पथ, इस प्रकार बढ़ते हुए

इलेक्ट्रॉनों की संभावनाआयन उत्पन्न करने के लिए आर्गन गैस से टकराना। उत्पन्न आयन तब लक्ष्य सतह से टकराते हैं

विद्युत क्षेत्र की कार्रवाई के तहत औरसब्सट्रेट सतह पर पतली फिल्म जमा करने के लिए लक्ष्य सामग्री को स्पटर करें।

सामान्य स्पटरिंग विधि का उपयोग किया जा सकता हैविभिन्न धातुओं, अर्धचालकों, फेरोमैग्नेटिक की तैयारी के लिए

सामग्री, साथ ही अछूता आक्साइड, चीनी मिट्टी की चीज़ें औरअन्य पदार्थ।उपकरण पीएलसी + टच का उपयोग करता है

पैनल एचएमआई नियंत्रण प्रणाली, जो पैरामीटर दर्ज कर सकती हैप्रोग्राम करने योग्य प्रक्रिया इंटरफ़ेस, कार्यों के साथ

जैसे सिंगल टारगेट स्पटरिंग, मल्टी-टारगेट सीक्वेंशियल स्पटरिंगऔर सह स्पटरिंग।

 

हमारे फायदे

हम निर्माता हैं।

परिपक्व प्रक्रिया।

24 कार्य घंटों के भीतर उत्तर दें।

 

हमारा आईएसओ प्रमाणन

ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन 1

 

 

हमारे पेटेंट के हिस्से

ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन 2ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन 3

 

 

हमारे पुरस्कारों के भाग

ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन 4ढांकता हुआ फिल्म्स ऑप्टिकल कोटिंग उपकरण PVD मैग्नेट्रॉन स्पटर डिपोजिशन मशीन 5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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